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  • 光刻膠成分及用途raphy)灰度曝光可以產生曲面的光刻膠剖面,是制作三維浮雕結構的光學曝光技術之一。灰度曝光的關鍵在于灰度掩膜板的制作、灰度光刻膠工藝與光刻膠浮雕圖...2017-10-31 17:26:19
  • 基于電化學刻蝕與微電鑄工藝, 需要對基板進行研磨拋光。(2)SU-8 膠膜的制備。本文采 用掩膜曝光技術制作矩形膠膜型腔 作為填充的空間,膠膜采用 SU-8 膠 制作,曝光工...2017-10-10 08:38:48
  • 光刻技術的基本原理100nm線條以下半導體器件制造的主要工具。3.2電子束光刻? 電子束曝光技術是迄今為止分辨率最高的一種曝光手段。電子束光刻的優(yōu)點是(1)分辨率高;...2016-10-10 10:13:26
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